La tecnologia LDI determina directament el límit superior del rendiment de RF de les plaques d'alta freqüència a partir de tres dimensions bàsiques: control d'impedància, pèrdua de senyal i consistència de fase, aconseguint una precisió d'amplada de línia de nivell micròmetre. Actualment, és el procés bàsic per als fabricants de personalització de plaques d'alta freqüència superar el coll d'ampolla del rendiment de RF.
L'avantatge bàsic de la tecnologia LDI en la precisió de l'amplada de línia
El procés tradicional d'exposició de la pel·lícula està limitat per l'expansió tèrmica i la contracció de la pel·lícula i la desviació d'alineació mecànica, i la tolerància de l'amplada de línia només es pot mantenir a ± 25 μ m. Tanmateix, la tecnologia d'imatge directa làser LDI no requereix pel·lícula, i el feix làser UV s'imatge directament al substrat fotosensible mitjançant el control de l'ordinador. En condicions de producció massiva, la precisió de l'espaiat de l'amplada de línia es pot controlar dins de ± 25 μ m. Després de l'optimització per a materials d'alta freqüència com Rogers, la precisió de l'amplada de línia es pot millorar encara més fins a ± 5 μ m, i l'amplada de línia mínima pot arribar als 5 μ m, complint completament els requisits dels circuits fins a la banda de freqüència d'ona mil·limètrica.
La lògica bàsica de la precisió de l'amplada de línia que determina el rendiment de RF
Determinar directament la consistència de la impedància característica
La impedància característica de les línies de transmissió d'alta freqüència està determinada per paràmetres com l'amplada de la línia, el gruix dielèctric i la constant dielèctrica, entre els quals l'amplada de línia és la variable més controlable a l'extrem de fabricació i té l'impacte més significatiu en les fluctuacions d'impedància. En l'escenari del radar d'ones mil·límetres muntat en vehicles de 77 GHz, una desviació d'amplada de línia de 0,02 mm pot provocar canvis d'impedància de 2-3 Ω, trencant directament l'estat de concordança de la impedància estàndard de 50 Ω i provocant una reflexió greu del senyal. El control d'amplada de línia d'alta precisió de LDI és la base per aconseguir una tolerància d'impedància de ± 5%.
Redueix significativament la pèrdua de transmissió del senyal d'alta freqüència
Els senyals d'alta freqüència presenten un fort efecte de pell, amb una profunditat de pell de només uns 0,66 μm per al coure a 10 GHz. Les petites rebaves i els buits a la vora del circuit poden augmentar significativament la resistència equivalent del conductor, augmentant l'atenuació del senyal. Les línies generades per la tecnologia LDI tenen vores llises i lliures de distorsió, i quan es combinen amb processos de gravat controlats, poden obtenir perfils de línia verticals a les parets laterals, evitant el problema de distorsió gràfica causat per l'exposició tradicional de pel·lícules i reduint significativament la pèrdua de conductor de senyals d'alta freqüència.
Assegureu-vos el rendiment de la fase de RF i de l'antena
En sistemes de RF multicanal, com ara matrius en fase d'ones mil·límetres i antenes de radar, la desviació de l'amplada de la línia pot canviar directament la longitud física de la línia de transmissió, provocant un canvi de fase entre canals. La precisió d'amplada de línia de ± 5 μ m de LDI pot controlar la tolerància de mida del pegat de l'antena de 77 GHz dins de ± 10 μ m, assegurant la consistència de fase dels senyals multicanal i evitant problemes com ara el desplaçament del feix de l'antena i la disminució del guany causada per la desviació de fase.
El llindar per a l'aterratge de la capacitat LDI dels fabricants de plaques d'alta freqüència
No tots els fabricants equipats amb dispositius LDI poden aconseguir un rendiment de RF estable, i adonar-se realment del valor de la tecnologia LDI requereix una col·laboració completa en el procés de la cadena:
Equipat amb pel·lícula seca dedicada LDI d'alta resolució, que equilibra l'eficiència de l'exposició i la precisió de l'anàlisi gràfica.
Equipat amb un sistema d'alineació automàtica CCD i un algorisme de compensació de contracció i expansió progressiva de placa multicapa, adaptat a les característiques de mida de diferents materials d'alta freqüència com ara PTFE i farciment ceràmic.
Coopereu amb el seguiment en temps real dels factors de gravat mitjançant línies de gravat al buit per convertir la precisió d'exposició de LDI en la precisió de l'amplada de línia del producte final.
L'instrument de mesura d'imatge d'anime i el provador d'impedància TDR s'utilitzen per completar la inspecció completa per assegurar-se que l'amplada de línia i la impedància de cada placa compleixen els requisits de disseny de RF.